产品介绍
氧化铋主要应用对象有电子陶瓷粉体材料、电解质材料、光电材料、高温超导材料、催化剂。氧化铋作为电子陶瓷粉体材料中的重要添加剂，纯度一般要求在99.15%以上，主要应用对象有氧化锌压敏电阻、陶瓷电容、铁氧体磁性材料三类。
产品参数
中文名 三氧化二铋 化学式 Bi2O3
分子量 465.96 熔点 825ºC
沸点 1890（ºC,常压） 密度 8.9 （g/mL,25/4℃、α型）
陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过精密机械加工成靶材,可根据客户要求定制加工特殊掺杂比例靶材。
产品优势 靶材纯度高,致密度高,成分均匀
产品规格 图片靶材，矩形靶材，圆柱靶材，台阶片靶材，管型靶材，根据客户的图纸定制
产品用途 磁控溅射镀膜材料等
产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单
适用仪器 各类型号磁控溅射设备
服务项目 靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧
加工流程 熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
厂家优势
收货后7日内可协商退换货
靶材种类齐全
公司介绍
北京京迈研材料科技有限公司坐落于北京通州区创建于2015年,是国内有色金属行业综合性研究开发公司。 现有员工100余人。我公司光学镀膜材料中心以国内领先的技术，多年来一直专业从事光学镀膜材料及溅射靶材的研发与生产。靶材包括各种氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、复合物、金属及合金等，也可根据您的要求量身定做。通过严格控制生产、并持续改进、稳步发展，致力为客户提供最优质的产品。
公司现有靶材热压炉；真空蒸馏装置，电解槽，单晶炉，区熔装置，CVD（化学气象沉积）装置，PVD（物理气象沉积）装置，移动式加热装置等多种高纯金属和化合物生产研发设备；提纯工艺包括：真空蒸馏；精馏；区域熔炼；电解；化学气象沉积；物理气象沉积；热扩散；单晶提拉法等。纯度从99.9%-99.99999%,公司先后研发的蒸发材料、溅射靶材系列产品，产品涉及工具/装饰镀膜、玻璃镀膜、光学镀膜、平面显示/触摸屏镀膜、薄膜太阳能镀膜等多个领域广泛应用到国内外众多知名太阳能、航空航天、生物医疗、微电子、信息储存、汽车、船舶、装饰、工业镀膜、新能源企业当中。
自有设备：真空热压炉，真空中频感应熔炼炉，冷坩埚悬浮熔炼炉，非自耗真空电弧炉，真空高温加热炉，真空烧结炉，真空蒸馏炉，定向凝固，区域熔炼炉，多温区加热炉，单晶炉，高温烧结炉，单温区，双温区、多温区液相、气相合成炉、氧化炉、加工设备。
北京京迈研材料科技有限公司几年来已先后与国内几十家知名高校、中科院等研究院所建立了长期友好的合作关系，并与这些科研单位有密切的学术交流和技术合作项目，并远销欧洲、美国、日本、韩国等，在镀膜行业拥有良好的声誉。