产品介绍
二硅化钼（Molybdenum Disilicide）是一种钼的硅化合物，也称为硅化钼，分子式为MoSi2 ，分子量为154.13。
由于两种原子的半径相差不大，电负性比较接近，所以其具有近似于金属与陶瓷的性质。熔点高达2030℃，具有导电性，在高温下表面能形成二氧化硅钝化层以阻止进一步氧化，其外观为灰色金属色泽，源于其四方α-型晶体结构，也存在六角形但不稳定的β-改性晶体结构 。
产品参数
中文名 二硅化钼 化学式 MoSi2
分子量 154.13 熔 点 2030℃
密 度 6.24g/cm3
陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过精密机械加工成靶材,可根据客户要求定制加工特殊掺杂比例靶材。
产品优势 靶材纯度高,致密度高,成分均匀
产品规格 图片靶材，矩形靶材，圆柱靶材，台阶片靶材，管型靶材，根据客户的图纸定制
产品用途 磁控溅射镀膜材料等
产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单
适用仪器 各类型号磁控溅射设备
服务项目 靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧
加工流程 熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
厂家优势
收货后7日内可协商退换货
靶材种类齐全
支持合金靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！
本网站价格只做参考，期待您的垂询！
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
